血小板煆焼アルミナメーカー 

 血小板煆焼アルミナメーカー 

板煆焼アルミナ研磨粉は、高品質の工業用アルミナ粉を原料とし、特殊な製造工程を経て加工されています。製造されたアルミナ研磨粉の結晶形状は、平板状のように六角形に平らであるため、プレートレットアルミナまたは平板状アルミナと呼ばれます。

プレートアルミナのアルミナ純度は99%以上で、耐熱性、耐酸性・耐アルカリ性、高硬度という特徴があります。従来の研磨性球状粒子とは異なり、平坦なアルミナの底面は平坦であり、粒子は研削中にワークピースの表面にフィットし、スライド研削効果を生み出し、粒子の鋭い角がワークピース。一方、粉砕時の板状アルミナは、粒子表面に粉砕圧力が均一に分散され、粒子が壊れにくく、耐摩耗性が向上し、粉砕効率と表面仕上げが向上します。

半導体シリコンウェーハなどの半導体材料の場合、プレート酸化アルミニウムを適用すると、粉砕時間が短縮され、粉砕効率が大幅に向上し、粉砕機の損失が減少し、労力と粉砕コストが節約され、粉砕通過率が向上します。品質は有名な外国ブランドに近いです。

受像管のガラス球研削の作業効率は3-5倍に増加します。

認定製品率は10〜15%増加し、半導体ウェーハの認定製品率は99%以上に達します。

粉砕消費量は、通常のアルミナ研磨粉末よりも40〜40%少なくなります。

 

化学組成

Al2O3≥99.0%
SiO2<0.2
Fe2O3<0.1
Na2O<1

 

物理的特性

素材α-Al2O3
比重≥3.9g/cm3
モース硬度9.0

 

利用可能なサイズ

タイプD3(um)D50(1)D94(um)
CA4039-44.627.7-31.718〜20
CA3535.4-39.823.8-27.215-17
CA3028.1-32.319.2-22.313.4-15.6
CA2524.4-28.216.1-18.79.6-11.2
CA2020.9-24.113.1-15.38.2-9.8
CA1514.8-17.29.4-115.8-6.8
CA1211.8-13.87.6-8.84.5-5.3
CA098.9-10.55.9-6.93.3-3.9
CA056.6-7.84.3-5.12.55-3.05
CA034.8-5.62.8-3.41.5-2.1

製品の適用範囲:

1)電子工業:半導体単結晶シリコンウェーハ、水晶水晶、複合半導体(結晶ガリウム、リン酸化ナノ)の研削と研磨。

2)ガラス産業:水晶、水晶、キネスコープガラスシェルスクリーン、光学ガラス、液晶ディスプレイ(LCD)ガラス基板、水晶の研削と加工。

3)コーティング産業:プラズマ溶射用の特殊コーティングおよびフィラー。

4)金属およびセラミック加工産業:精密セラミック材料、焼結セラミック原料、高品質高温コーティングなど。

 

パッケージ:10kgs /バッグ、20kgs/カートン

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